ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ПЛАЗМЕННЫХ ТЕХНОЛОГИЙ ПЛАЗМА. ОПРЕДЕЛЕНИЕ. ХАРАКТЕРИСТИКИ. КЛАССИФИКАЦИЯ. - презентация

1 ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ПЛАЗМЕННЫХ ТЕХНОЛОГИЙ ПЛАЗМА. ОПРЕДЕЛЕНИЕ. ХАРАКТЕРИСТИКИ. КЛАССИФИКАЦИЯ.

2 ОПРЕДЕЛЕНИЕ ПЛАЗМЫ. ПЛАЗМА – частично или полностью ионизированное состояние вещества, при котором система содержит свободные положительные (ионы) и отрицательные (электроны) заряженные частицы, концентрации которых в среднем практически одинаковы.

3 КЛАССИФИКАЦИЯ ПЛАЗМЫ ПЛАЗМА бывает равновесной и неравновесной, высоко и низкотемпературной, изотермической и неизотермической, идеальной и неидеальной,

4

5 Схема сильноточного ускорителя ТОНУС: 1генератор импульсных напряжений; 2 коммутатор; 3 делитель напряжения; 4 маслонаполненная двойная формирующая линия; 5 зарядная индуктивность; 6 диодный узел; 7 - соленоид; 8 камера дрейфа пучка; 9 цилиндр Фарадея; 10 шунт обратного тока пушки

6 ЦЕЛИ И ЗАДАЧИ ТЕХНОЛОГИИ ТЕХНОЛОГИЯ изучает методы и процессы переработки сырья в предметы потребления и средства производства.

7 ЦЕЛИ И ЗАДАЧИ ТЕХНОЛОГИИ Задачей технологии является проектирование и выбор условий, схем и типов производственных процессов и необходимых операций, а также создание конструкций установок и выбор материалов для приборов и машин, необходимых для реализации технологического процесса.

8 К вопросу о диамагнетизме плазмы

9 Схема магнетронной распылительной системы с плоской мишенью:

10 1 катод-мишень; 2 магнитная система; 3 источник питания; 4 анод; 5 траектория движения электрона; 6 - зона распыления; 7 силовая линия магнитного поля

11