Скачать презентацию
Идет загрузка презентации. Пожалуйста, подождите
1
Электронно-лучевая литография на оборудовании Raith GmbH: от идеи до реализации Научно-практический семинар 28 мая 2012 года
2
Время ДокладДокладчик Вступительное словоМальцев Петр Павлович д.т.н., профессор, директор ИСВЧПЭ РАН, Москва Welcome and About Raith companyDirk Brueggemann Director Sales New Markets, Raith GmbH, Germany ОПТЭК представляет высокотехнологичные решения для наукиВласенко Вячеслав Сергеевич Руководитель направления материаловедения, ООО «ОПТЭК», Москва Raith product portfolio and applicationsMartin Kirchner Director Sales New Markets, Raith GmbH, Germany Coffee break Основные достижения Учреждения Российской академии наук Института сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники РАН (ИСВЧПЭ РАН) в области создания монолитных интегральных схем КВЧ диапазона Федоров Юрий Владимирович Зав.Лаб. ИСВЧПЭ РАН, Москва Resistless Lithography with Raith ionLiNE. Instrument concept and applicationsSven Bauerdick Product Manager, Raith GmbH, Germany Разработка технологии изготовления матрицы линз Френеля с помощью Raith QUANTUM Гончаров Антон Сергеевич инженер НИИ РЛ МГТУ им. Н.Э. Баумана, Москва Методы экспонирования без стыковки полейЛитвин Леонид Владимирович application scientist, Raith GmbH, Germany Обед
3
ДатаВремяГруппа 29 мая Группа 1 30 мая Группа 2 31 мая Группа 3 1 июня Группа 4 2 июня Группа 5 C 29 мая по 2 июня у Вас есть возможность посетить лабораторию ИСВЧПЭ РАН, подав заявку в день проведения семинара (28 мая) на стойке регистрации.
Еще похожие презентации в нашем архиве:
