МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИИ ПРОИЗВОДСТВА И ХАРАКТЕРИСТИК КРЕМНИЕВОГО ДМОП ТРАНЗИСТОРА С УЧЕТОМ ЭФФЕКТА САМОРАЗОГРЕВА И.С. МАРТЕМЬЯНОВ, В.О. ТУРИН, В.В. ИВАНОВА,

Презентация:



Advertisements
Похожие презентации
Полевые транзисторы со структурой МДП Выполнили: Водакова В.Ю Семаков Н.В гр
Advertisements

МДП транзисторы Выполнил студент группы : Тетерюк И.В.
Моделирование совмещенных МОП приборов с нанометровыми размерами В. В. Ракитин ФГУП НИИ физических проблем им. Ф. В. Лукина.
МДП транзисторы Стефанович Т.Г.
Компьютерное моделирование и проектирование микро- и нано- электроники и микроэлектро- механических систем III-ий региональный семинар, 2011 г. Кафедра.
МДП транзисторы. МДП транзистор Полевой транзистор с изолированным затвором - это полевой транзистор, затвор которого отделен в электрическом отношении.
Переходные характеристики МДП транзистора Разгуляев О. А.
Полевые транзисторы Мытарев А.В. Мытарев А.В. Яковлева Д.А. гр
Типы полевых транзисторов 1. с изолированным затвором - МДП - транзисторы - МНОП – элементы памяти - МДП – транзисторы с плавающим затвором - Приборы.
Доклад на тему Полевые транзисторыПолевые транзисторы Выполнил: студент 3-го курса ФТФ гр Крюков Дмитрий Сергеевич.
Проходные и переходные характеристики МДП- транзистора Трифонова Н. Харлукова О. гр
Приборно-технологическое моделирование тиристоров Матюхин С.И., Ставцев А.В.* Госуниверситет – УНПК, *ЗАО «Протон-Электротекс»
Полевые транзисторы Выполнили: Зуев А.П., Терёхин М.С. Терёхин М.С.
Технологическое моделирование (TCAD) Лабораторная работа 1.
Полевые транзисторы. Оглавление 1. Полевые транзисторы. 2. Оглавление. 3. Схемы МДП-транзисторов. 4. Цифровые фотографии полевого транзистора.
Выполнили: Миков А.Г., Пронин Е.Х. Руководитель: Гуртов В.А. Полевые Транзисторы 01 Старт !
Компьютерная электроника Лекция 19. Полевые транзисторы.
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Национальный исследовательский ядерный университет.
Оптимизация структуры полупроводникового лазера с двойной гетероструктурой и раздельным ограничением при помощи методов приборно-технологического моделирования.
Выполнили студенты группы Никитин Н.Н. Дроздов А. В.
Транксрипт:

МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИИ ПРОИЗВОДСТВА И ХАРАКТЕРИСТИК КРЕМНИЕВОГО ДМОП ТРАНЗИСТОРА С УЧЕТОМ ЭФФЕКТА САМОРАЗОГРЕВА И.С. МАРТЕМЬЯНОВ, В.О. ТУРИН, В.В. ИВАНОВА, Г.И. ЗЕБРЕВ*, А.М. ЦЫРЛОВ** УНИЛ ПТММиН при кафедре Физика Госуниверситет-УНПК, *Национальный исследовательский ядерный университет (МИФИ) **OAO «Протон»

Оптореле ОАО Протон, г. Орел производит различные типы оптореле на основе вертикальных МОП транзисторов с двойной диффузией.

УПРОЩЁННАЯ МОДЕЛЬ ЯЧЕЙКИ ВЕРТИКАЛЬНОГО МОП-ТРАНЗИСТОРА С ДВОЙНОЙ ДИФФУЗИЕЙ (ВСЕГО 2489 ЯЧЕЕК) Параметры моделируемой ячейки: ε=3.9 W=100 мкм L=4 мкм dox=68 нм μ=405 м^2/Вс Vth=2,2 В

Моделирование саморазогрева VDMOS транзистора с длиной канал 4 мкм Повышенное выделение тепла наблюдается в области вертикального стока. Граничные условия, использовавшиеся при моделировании: Начальная температура стока: Начальная температура стока: Тепловое сопротивление стока: Тепловое сопротивление стока:

Выделение Джоулева тепла

Сравнение ВАХ ячейки реального ДМОП транзистора и ячейки, промоделированной в TCAD Sentaurus с учетом саморазогрева

Моделирование саморазогрева ДМОП транзистора с длиной канала 1 мкм

Выделение Джоулева тепла в ячейке ДМОП транзистора с каналом 1мкм

Сравнение зависимостей максимальной температуры прибора от напряжения на стоке для ДМОП транзисторов с длиной канала 1мкм и 3.6мкм

Деградация выходных характеристик из-за эффекта саморазогрева в ДМОП транзисторе с длиной канала 1мкм Эффект саморазогрева вызвал деградацию тока на 30% при напряжении затвор-исток Vg=8B Эффект саморазогрева вызвал деградацию тока на 30% при напряжении затвор-исток Vg=8B

Расчет изменения сопротивления вертикального стока Параметры моделирования: Параметры моделирования: a) Площадь поверхности: b) Напряжение затвор-исток: c) Напряжение сток-исток: В транзисторе, промоделированном с учетом саморазогрева, сопротивление вертикального стока увеличилось на 253 Ом. В транзисторе, промоделированном с учетом саморазогрева, сопротивление вертикального стока увеличилось на 253 Ом.

Выводы Температура ячейки транзистора с длиной канала 1 мкм в среднем на 20К выше, чем температура транзистора с длиной канала 4 мкм при том же напряжении на затворе Температура ячейки транзистора с длиной канала 1 мкм в среднем на 20К выше, чем температура транзистора с длиной канала 4 мкм при том же напряжении на затворе Саморазогрев ячейки транзистора с длиной канала 1 мкм вызывает увеличение сопротивления вертикального стока на 253 Ом при напряжении на затворе Vg = 8В Саморазогрев ячейки транзистора с длиной канала 1 мкм вызывает увеличение сопротивления вертикального стока на 253 Ом при напряжении на затворе Vg = 8В

Работа в Госуниверситете-УНПК велась в УНИЛ ПТММиН при кафедре «Физика» и поддержана грантом РФФИ р_офи Спасибо за внимание!