Научно-технологический парк БНТУ «Политехник» « » Научно-инженерное республиканское унитарное предприятие «Полимаг» « » Тема доклада: Формирование сверхгладких бездефектных поверхностей магнитно-абразивным полированием для оптики, лазерной техники, электроники и нанотехнологий Автор доклада : директор НИРУП «Полимаг», к.т.н. Хомич Н.С. « »..

МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ Ферроабразивный порошок под действием магнитного поля приобретает вид «эластичной щетки» и полирует поверхность изделия. Импульсное магнитное поле «встряхивает» структуру материала и выводит на поверхность слабозакрепленные дефекты. « » Формируется бездефектный приповерхностный слой. Финишное магнитно-абразивное полирование пластин монокристаллов кремния (подложки интегральных схем), оптических стекол и фторидов бария, кальция и магния (оптически активные элементы силовых лазерных устройств) обеспечивает формирование нанорельефа поверхностей с высотой неровностей менее 20-и ангстрем, что соответствует лучшим мировым образцам 20

ПОЛИРОВАНИЕ ДЕТАЛЕЙ ОПТИКИ И ЭЛЕКТРОНИКИ Привод диска Станина Опора Привод полюса Полюс Ферроабразивный порошок Пласти -на Катушка Диск М А Г Н И Т Н О - А Б Р А З И В Н А Я О Б Р А Б О Т К А Установка 3905 Схема установки - диаметр полируемых пластин, мм < толщина пластин, мм < 10 Примеры применения: - характеристика шероховатости - полирование пластин монокристаллов кремния - полированной поверхности Ra, нм 0,8 – 2,0 подложек интегральных схем, - потребляемая энергия, кВт 2,0 - полирование плоских поверхностей оптических - габариты: L х B х H, м 1,0 х 0,7 х 1,3 стекол, фторидов, керамических и других - масса, кг 250 материалов оптики и электроники

ПОЛИРОВАНИЕ ДЕТАЛЕЙ ОПТИКИ И ЭЛЕКТРОНИКИ < < 10 : - -Ra 0,8 – 2,0 -- 2,0 - : L х B х H, м 1,0 х 0,7 х 1, –

Изотропность нанорельефа пластины кремния диаметром 150 мм 150

The technology of magnetic-abrasive polishing high-precision flat surfaces MA08 Technical characteristics: Diameter of parts – 20…200 mm Parts thickness – < 5 mm Time of polishing – 2…15 min Power input – 1,5 kW L×B×H – 700×700×500 mm Weight – 80 kg The setup model MA08 is used for ultrathin polishing of high-precision flat parts surfaces of optics, electronics and laser technologies.

Пластина монокристалла кремния после полирования в магнитном поле TTV = 2,9 мкм TTV = 2.9

Топограмма поверхности пластины монокристалла кремния после полирования в магнитном поле Ra = 0,72 nm Ra = 0.72 nm

Топограмма поверхности пластины монокристалла CaF2 после полирования в магнитном поле Ra = 1,537 nm Ra = nm CaF2

Программно-управляемый комплекс для полирования прецизионных поверхностей

The computer controlled magnetic-abrasive polishing technology for optical aspherical surfaces А09 Technical characteristics: Diameter of parts – under 100 mm Time of polishing – 2…15 min Power input – 1,5 kW L×B×H – 700×600×500 mm Weight – 80 kg Technology is intended for correction of polished optical surface figure errors. Correction technique is automatic surface scanning with flexible tool which has reproducible influence function.

Интерферограммы поверхности оптической детали до МАП (а) и после МАП (б) a b PV=1,349 fr PV=0,370 fr а) RMS=0,371 fr б) RMS=0,053 fr Power=-1,192 fr Power=-0,130 fr Ra = 13,9 nm Ra = 1,5 nm -улучшение формы в 3-5 раз за одну итерацию -снижение параметров нанорельефа в 8-10 раз