ВЛИЯНИЕ ДЕФЕКТОВ НА УСКОРЕННОЕ ФОРМИРОВАНИЕ НАНОПРЕЦИПИТАТОВ SiO 2 В Si ПОД ДЕЙСТВИЕМ RTA Институт физики полупроводников им. В.Е. Лашкарева НАНУ, Киев,

Презентация:



Advertisements
Похожие презентации
БЕЛОРУССКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ УДК Выпускная работа по Основам информационных технологий Магистрант кафедры физики полупроводников и наноэлектроники.
Advertisements

ОСОБЕННОСТИ ДЕФЕКТООБРАЗОВАНИЯ ПРИ ВЫРАЩИВАНИИ БЕЗДИСЛОКАЦИОННЫХ МОНОКРИСТАЛЛОВ КРЕМНИЯ И ТЕРМООБРАБОТКЕ ПЛАСТИН Меженный М.В. 1), Простомолотов А.И. 2),
Разработка лазерных методов ИК спектрометрии для анализа примесей в полупроводниковых материалах Выпускница: Чернышова Елена Игоревна Руководитель работы:
ВЛИЯНИЕ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНОВ ФОСФОРА НА СТРУКТУРНЫЕ ИЗМЕНЕНИЯ В ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЯХ МОНОКРИСТАЛЛА КРЕМНИЯ.
Кристаллизации металлов. Методы исследования металлов.
ИССЛЕДОВАНИЕ ТЕРМИЧЕСКОЙ СТАБИЛЬНОСТИ СТРУКТУРЫ И МЕХАНИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ТИТАНА В СУБМИКРОКРИСТАЛЛИЧЕСКОМ СОСТОЯНИИ, ПОЛУЧЕННОГО МЕТОДОМ ABC- ПРЕССОВАНИЯ.
ПРИМЕНЕНИЕ ИНФОРМАЦИОННЫХ ТЕХНОЛОГИЙ В ИССЛЕДОВАНИИ СТРУКТУРНЫХ И ОПТИЧЕСКИХ СВОЙСТВ НАНОКРИСТАЛЛОВ InSb и InAs, СИНТЕЗИРОВАННЫХ ВЫСОКОДОЗНОЙ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИЕЙ.
Атомные механизмы диффузии и дефекты кристаллов ВЫПОЛНИЛА: Хорошильцева Оксана студентка 554 группы.
Лекция 1 Введение.. Опр. эконометрика это наука, которая дает количественное выражение взаимосвязей экономических явлений и процессов.
Дефекто-примесная инженерия в ионно- имплантированном кремнии Комаров Фадей Фадеевич Мильчанин Олег Владимирович Цель: Цель: исследовать процессы электрической.
Взаимодействие примеси сурьмы с протяженными дефектами в кремнии Садовский П.К. 1), Челядинский А.Р. 1), Оджаев В.Б. 1), Тарасик М.И. 1), Турцевич А.С.
EFFECT OF PERTURBATION OF VIBRATIONAL STATES AT INTRAMOLECULAR AND SPECTROSCOPIC PARAMETRS S.P. Gavva, M. A. Tokareva Saratov State Technical University,
Кремний 2010 Н-Новгород, Июль 7-9 Зарождение островков Ge на структурированных подложках Si План: - Формирование пространственно-упорядоченных массивов.
Отжиг деформированного нейзильбера, содержащего свинец.
ВТОРОЙ ВИРИАЛЬНЫЙ КОЭФФИЦИЕНТ И ЗАВИСИМОСТЬ СВОЙСТВ РАСТВОРОВ МАКРОМОЛЕКУЛ ОТ ИХ КОНЦЕНТРАЦИИ Ташкентский химико-технологический институт Касымджанов М.А.,
Управление ростом кристаллов Подготовили : Родникова Катя Прасолова Женя Руководитель : Фалалеев Николай ГБОУ СОШ 224.
Конкурс У.М.Н.И.К. Исследование колебаний кремневодородных связей в тонких пленках аморфного гидрогенезированного кремния методами Рамановский и ИК-спектроскопии.
Автор : Кадушкевич Оксана Викторовна Научный руководитель : к. т. н., доцент Чермалых А. В.
Синтез и свойства нанокристаллов GeSn в слоях Si и SiO 2.
Федеральная целевая программа «Научные и научно-педагогические кадры инновационной России» на годы, направление «Физика конденсированных сред.
Транксрипт:

ВЛИЯНИЕ ДЕФЕКТОВ НА УСКОРЕННОЕ ФОРМИРОВАНИЕ НАНОПРЕЦИПИТАТОВ SiO 2 В Si ПОД ДЕЙСТВИЕМ RTA Институт физики полупроводников им. В.Е. Лашкарева НАНУ, Киев, Украина ОАО «Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности «ГИРЕДМЕТ»» Москва, Россия В.Г. Литовченко, И.П. Лисовский, В.Ф. Мачулин, В.П. Кладько, А.В. Сариков, С.А. Злобин, М.В. Войтович, М.В. Меженный

Мотивация и цель Большинство исследований, касающихся влияния БТО на преципитацию кислорода в пластинах Si, связано с применением различных режимов отжига после предварительной термообработки с использованием импульсного нагрева. Нами было обнаружено, что БТО пластин солнечного кремния при умеренной температуре (850 o C) вызывает ускоренную преципитацию кислорода. Целью работы является исследование влияние БТО на изменение дефектного состояния кристалла и обсуждение возможных физических механизмов ускоренной преципитации кислорода в кристаллах солнечного Cz-Si под действием БТО.

Методика эксперимента Cz-Si Отжиг Т=800 0 С t=10ч БТО Т=850 0 C t =1 26 мин

Методика эксперимента Исследовали: тип и размеры дефектов ( дифракционное отражение и диффузное рассеяние рентгеновских лучей - рентгеновский дифрактометр XPert PRO MRD ) концентрация междоузельного кислорода (С і ) и преципитировавшего кислорода (С р ) ( FTIR Spectrum BXII PerkinElmer ) структура преципитированной фазы ( анализ формы полосы поглощения на валентных колебаниях Si-О связи )

Структурное состояние кислорода в исходном кристалле В постростовом состоянии преципитировавший кислород образовывал включения с малонапряженной структурой, состоящие из 6-членных колец SiО 4 -тетраэдров

Изменение полосы ИК-поглощения кислорода в результате отжига

Изменение полосы ИК-поглощения кислорода в результате БТО Верхняя часть слитка Нижняя часть слитка

Изменение структурного состояния кислорода в результате отжига (800 о С, 10 часов, аргон) Постростовое состояние ТО В структуре преципитатов рядом с тетраэдрами SiО 4 появляются молекулярные комплексы недоокисленного кремния (SiО 2 Si 2 и SiО 3 Si)

Изменение концентрации межузельного кислорода в процессе БТО Экспериментальные (точки) и расчетные (линии) данные о концентрации междоузельного кислорода в зависимости от времени БТО обработки при 850 °С пластин Cz-Si, вырезанных из верхней (1) и нижней (2) части слитка Si.

Характеристики микродефектов (МД) исследованных образцов. ОБРАЗЕЦ Размер МД вакансионого типа, мкм Размер МД междоузельного типа, мкм ci/cvci/cv Постростовое состояние верх0,57 2,23· ,57 2,45· ,87 0,76 низ1,07 1,77 Отжиг 800 о C 10 ч верх1,56 1,91 1,14 1,91 0,75 0,53 низ1,72 0,48 Отжиг 800 о C 10 ч + БТО верх2,453,44 1,56 1,36 низ1,430,488,86

Изменение структурного типа дефектов в результате термообработок Зависимость соотношения концентраций дефектов междоузельного и вакансионного типа от вида отжига для пластин кремния, вырезанных из верхней и нижней части слитка Si.

Термообработка при 800 о С приводит к росту вклада дефектов вакансионного типа для обоих частей слитка. При этом, для образцов, вырезанных из верхней части слитка, наблюдается исчезновение мелких микродефектов. БТО приводит к изменению преобладающего типа собственных точечных дефектов – в обеих частях слитка стали преобладать дефекты междоузельного типа, причем этот эффект намного заметнее для образцов, вырезанных из нижней части слитка. Для описания кинетики преципитации кислорода в процессе БТО при 850 °С была предложена математическая модель. Эта модель предполагает, что до проведения БТО в пластинах кремния существуют преципитаты SiO 2 равного размера сферической формы с концентрацией Np, образовавшиеся в результате отжига при 800 °С. Лимитирующей стадией данной модели роста преципитатов при БТО является процесс диффузионного подвода кислорода извне. Обсуждение экспериментальных результатов

Для объяснения экспериментальных данных в рамках предложенной модели необходимо допустить, что значения равновесной концентрации межузельного кислорода, определенные в результате моделирования, значительно превышают известное значение предела растворимости. Это требует доработки данной модели для описания явлений, протекающих в процессе преципитации кислорода при проведении БТО по сравнению со случаем традиционного термического отжига. Обсуждение экспериментальных результатов

Выводы В данной работе изучены особенности преципитации кислорода в пластинах кремния, подвергнутых БТО после термообработки при 800 о С (10 час.). БТО приводит к изменению преобладающего типа собственных точечных дефектов – в обеих частях слитка начинают преобладать дефекты междоузельного типа, причем этот эффект намного заметнее для образцов, вырезанных из нижней части слитка. Для описания кинетики преципитации кислорода в процессе БТО при 850 °С была предложена математическая модель. Принципиальным моментом этой модели было значительное увеличение коэффициента диффузии кислорода в отожженных пластинах Si, a также изменение растворимости межузельного кислорода (в частности, вследствие взаимодействия с точечными дефектами, которые генерируются при БТО обработках).