МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ

КТО МЫ? Команда разработчиков и производителей оборудования для технологий вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий с 20-летним опытом разработок в составе Института сильноточной электроники Сибирского отделения Российской Академии наук. Ядром нашей команды являются: Сочугов Николай Семенович, директор Ковшаров Николай Федорович, разработчик технологических устройств Спирин Роман Евгеньевич, разработчик источников питания

В ДАННОЙ ПРЕЗЕНТАЦИИ ДЛЯ ВАС ПРЕДСТАВЛЕНЫ: Информация о нашей компании и команде. Технические характеристики приборов

КОМПАНИЯ ПРИКЛАДНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА создана сотрудниками Института сильноточной электроники Сибирского отделения Российской Академии наук (ИСЭ СО РАН) в 2004 году

МЫ РАЗРАБАТЫВАЕМ И ВЫПУСКАЕМ: Магнетронные распылительные системы. Источники электропитания для вакуумных ионно- плазменных технологий. Ионные источники с замкнутым дрейфом электронов. Вакуумные установки для нанесения тонкопленочных покрытий. Технологии нанесения тонкопленочных покрытий

РАБОТАЯ С НАМИ ВЫ ПОЛУЧАЕТЕ: 1. Возможность сопряжения оборудования с имеющийся вакуумной камерой без изменения цены. 2. Доставку оборудования бесплатно. 3. Возможность комплектной поставки магнетронной распылительной системы и источников питания в комплекте. 4. Индивидуальные рекомендации по выбору оптимальных режимов работы. 1. Тут вижу странности с нумерацией, а исправить не могу

МЫ ОБЕСПЕЧИМ: Открытость технической информации о продукции. Гарантийный срок 2 года. Современный внешний вид нашей продукции

НАШЕ КРЕДО – НАДЕЖНОСТЬ, КАЧЕСТВО, УДОБСТВО

НАШИ МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ: Будут иметь параметры, нужные именно Вам. Просты и удобны в эксплуатации. Могут иметь плавную регулировку степени несбалансированности. Все современные конструкции – С вращающимся цилиндрическим катодом. С планарным катодом С круглым катодом

Звоните – и мы с удовольствием обсудим Ваши предложения! Вы считаете, мы что-то упустили?

МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ С ВРАЩАЮЩИМСЯ ЦИЛИНДРИЧЕСКИМ КАТОДОМ

ПРОТЯЖЕННЫЕ МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ с вращающимся цилиндрическим катодом предназначены для использования в высокопроизводительных вакуумных технологических установках для нанесения покрытий из металлов и их соединений на подложки большой площади. Основным достоинством является высокая степень использования материала катода.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ПРОТЯЖЕННЫХ МАГНЕТРОНОВ С ВРАЩАЮЩИМИСЯ ЦИЛИНДРИЧЕСКИМИ КАТОДАМИ ПараметрЗначение Длина катода, мм Диаметр катода, мм Толщина стенки катода, ммдо 10 Магнитная системапостоянные магниты (SmCo, NdFeB) Магнитное поле на поверхности катода, Гс Тип охлажденияпрямое/косвенное Коэффициент использования катода, %до 80 Рабочие газыAr, O 2, N 2 и т.д. Рабочее давление, Па0.1-1 Мощность распыления, кВтдо 30

ПараметрЗначение Однородность наносимых покрытий, %± 2-5 Плотность ионного тока на подложку, мА/см Отношение потока атомов к потоку ионов на подложку ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ПРОТЯЖЕННЫХ МАГНЕТРОНОВ С ВРАЩАЮЩИМИСЯ ЦИЛИНДРИЧЕСКИМИ КАТОДАМИ

Стоимость протяженных магнетронов с вращающимися цилиндрическими катодами от рублей

ПРОТЯЖЕННЫЕ ПЛАНАРНЫЕ МАГНЕТРОНЫ С ПРЯМОУГОЛЬНЫМ КАТОДОМ

используются в лабораторных и опытных установках, а также для распыления материалов, которые не могут быть изготовлены в виде трубы.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ПРОТЯЖЕННЫЕ ПЛАНАРНЫЕ МАГНЕТРОНОВ С ПРЯМОУГОЛЬНЫМ КАТОДОМ ПараметрЗначение Длина катода, мм Ширина, мм120 Толщина стенки катода, ммдо 10 Магнитная системапостоянные магниты (SmCo, NdFeB) Магнитное поле на поверхности катода, Гс Тип охлажденияпрямое/косвенное Коэффициент использования катода, %30-45 Рабочие газыAr, O 2, N 2 и т.д. Рабочее давление, Па0.1-1 Мощность распыления, кВтдо 30

ПараметрЗначение Однородность наносимых покрытий, %± 3 Плотность ионного тока на подложку, мА/см Отношение потока атомов к потоку ионов на подложку ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ПРОТЯЖЕННЫЕ ПЛАНАРНЫЕ МАГНЕТРОНОВ С ПРЯМОУГОЛЬНЫМ КАТОДОМ

Стоимость протяженного планарного магнетрона с прямоугольным катодом От рублей

КРУГЛЫЕ МАГНЕТРОНЫ ДЛЯ РАЗМЕЩЕНИЯ ВНУТРИ ВАКУУМНОЙ КАМЕРЫ

применяются при нанесении покрытий на небольшие подложки и в лабораторных исследованиях.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ КРУГЛЫХ МАГНЕТРОНОВ ДЛЯ РАЗМЕЩЕНИЯ ВНУТРИ ВАКУУМНОЙ КАМЕРЫ ПараметрЗначение Диаметра катода, мм 50, 75, 100 Ширина, мм120 Толщина стенки катода, ммдо 10 Магнитная системапостоянные магниты (SmCo, NdFeB) Магнитное поле на поверхности катода, Гс Тип охлажденияпрямое/косвенное Коэффициент использования катода, %30-35 Рабочие газыAr, O 2, N 2 и т.д. Рабочее давление, Па0.1-1 Мощность распыления, кВт1, 1.5, 2.5

ПараметрЗначение Плотность ионного тока на подложку, мА/см ,2 Отношение потока атомов к потоку ионов на подложку 0.1-0,2 ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ КРУГЛЫХ МАГНЕТРОНОВ ДЛЯ РАЗМЕЩЕНИЯ ВНУТРИ ВАКУУМНОЙ КАМЕРЫ

Стоимость круглого магнетрона для размещения внутри вакуумной камеры От рублей

КРУГЛЫЕ МАГНЕТРОНЫ С ФЛАНЦЕВЫМ КРЕПЛЕНИЕМ И ПЛАВНОЙ РЕГУЛИРОВКОЙ СТЕПЕНИ БАЛАНСИРОВКИ

КРУГЛЫЕ МАГНЕТРОНЫ С ФЛАНЦЕВЫМ КРЕПЛЕНИЕМ И ПЛАВНОЙ РЕГУЛИРОВКОЙ СТЕПЕНИ НЕСБАЛАНСИРОВАННОСТИ применяются при нанесении покрытий на небольшие подложки и в лабораторных исследованиях. Очень полезны при проведении экспериментальных исследований.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ КРУГЛЫХ МАГНЕТРОНОВ С ФЛАНЦЕВЫМ КРЕПЛЕНИЕМ И ПЛАВНОЙ РЕГУЛИРОВКОЙ СТЕПЕНИ БАЛАНСИРОВКИ ПараметрЗначение Диаметра катода, мм 50, 100, 125 Толщина стенки катода, ммдо 10 Магнитная системапостоянные магниты (SmCo, NdFeB) Магнитное поле на поверхности катода, Гс Тип охлажденияпрямое/косвенное Коэффициент использования катода, %30-40 Рабочие газыAr, O 2, N 2 и т.д. Рабочее давление, Па Мощность распыления, кВт0.75, 1.5, 2.5

ПараметрЗначение Плотность ионного тока на подложку, мА/см Отношение потока атомов к потоку ионов на подложку ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ КРУГЛЫХ МАГНЕТРОНОВ С ФЛАНЦЕВЫМ КРЕПЛЕНИЕМ И ПЛАВНОЙ РЕГУЛИРОВКОЙ СТЕПЕНИ БАЛАНСИРОВКИ

Стоимость круглого магнетрона для размещения внутри вакуумной камеры От рублей

Приезжайте, звоните, спрашивайте!

С НАМИ МОЖНО СВЯЗАТЬСЯ: Телефон: (3822) , Факс: (3822) SKYPE: Nikolay Sochugov Мы находимся по адресу: , г. Томск, пр. Академический 8/8 офис 20

БАНКОВСКИЕ РЕКВИЗИТЫ Краткое наименование организацииООО "Прикладная Электроника" Почтовый и юридический адрес634021, г. Томск, пр. Академический 8/8 офис 20 Наименование банка - получателяФилиал "Газпромбанк" (ОАО) в г. Томске, ИНН , КПП Корреспондентский счет в ГРКЦ Банка России по Томской области Расчетный счет БИК ИНН/КПП / ДиректорСочугов Николай Семенович