Задача практикума «Темплатируемое электроосаждение металлических нанопроволок» Химические методы получения наноструктур

Проволоки/контуры NiAu ~ 2*10 8 пор/см 2 D p ~ 200 нм h h = 22 мкм, h1 ~ 0.05 мкм h1 Основные стратегии: - осаждение в поры напыление с двух сторон - напыление с одной стороны осаждение в поры + на наружную сторону Предварительные оценки: - объем пор затраты заряда на их заполнение - толщина слоя затраты заряда на рост слоя

1 осаждение Электролит Ваттса (Watts bath) 3 XRD 2 SEM Тестовые образцы для пола- нирования экспериментов по джозефсоновским переходам Ni e Ni Потенциал осаждения: Е Е равн Ni 2+ /Ni Е равн H + /H 2 Рабочий интервал Ток - время Заряд Масса осадка Выход по току Дефектность осажденного металла Уточнение заполнения и толщины наружного слоя

-Е (AgCl/Ag): Этап I – заполнение пор Признак выхода проволок из пор

-Е (AgCl/Ag): Этап II – формирование наружного слоя Признак выхода проволок из пор -Е (AgCl/Ag):

Микроскопия: мембрана, напыленный подслой

Микроскопия: мембрана, оценка плотности пор

Микроскопия: скол

Микроскопия: соединения проволок с напыленным Au

Рентгеновская дифракция Au Au, Ni Ni Au Ni Au До осаждения После осаждения

D int DpDp h Гибридные S/N/S h2h2 SN h3 ~ 3 мкм h3h3 периодичность важна? D p 100 – 300 нм? h1 - ? h2 < 0.1 мкм D int DpDp h2h2 S FM h3h3 h1 - ? N Гибридные S/FM/S h3 ~ 1-5 мкм h2 ? периодичность важна? нечетное число FM Dp ?Dp ? D int ? h – мкм? ПЕРСПЕКТИВЫ