Установка магнетронного распыления и дугового испарения ООО НПЦ «Поиск-МарГТУ» Н.И. Сушенцов

Износостойкие покрытия

Тонкопленочные нанотехнологии в декоративном убранстве православных храмов

Вакуумные методы получения пленок Дуговое испарение Магнетронное распыление

Установка магнетронного распыления и дугового испарения

Спасибо за внимание!

Строение (АСМ) поверхности пленок TiN, ZrN

Дуговое испарение

Магнетронное распыление При магнетронном распылении (один из методов ионного распыления, характерной особенностью которого является наличие магнитного поля у распыляемой поверхности мишени, позволяющего локализовать плазму и тем самым повысить скорость распыления) содержание рентгеноаморфной фазы в пленке достаточно велико, т.к. имеет место недостаточная ионизация пленкообразующих частиц

Магнетронное распыление Развитие конструктивных улучшений установок магнетронного распыления (появление несбалансированных магнетронов) позволило значительно расширить область применения метода в различных отраслях. За счет особой конфигурации магнитного поля несбалансированного магнетрона, ионизация рабочего газа и распыленных частиц происходит не только у поверхности мишени, но и на всем протяжении от мишени до подложки

Сканы поверхности и скола пленки AlN