Выполнил: студент группы 4-10 Шуянцев Василий. Основные технические характеристики: Вакуумная камера D-образная камера из нержавеющей стали 14"х 14"х.

Презентация:



Advertisements
Похожие презентации
Вакуумная установка Вакуумная система Система контроля и управления Транспорти- рующая система Устройства испарения/ распыления Вспомага- тельные устройства.
Advertisements

420087, Россия, Казань, ул. Аделя Кутуя, 159, тел/факс (843) , ,
Мобильные катки. Мобильные ледовые катки могут быть установлены в любом месте, в любое время года и обеспечить создание ледового поля площадью 450 м 2.
Понятие вакуума. Вакуумная техника. Семинар студентов и аспирантов ИФМ РАН докладчик: А.Е. Пестов Учреждение Российской академии наук Институт физики микроструктур.
Понятие вакуума. Вакуумная техника. Семинар студентов и аспирантов ИФМ РАН докладчик: А.Е. Пестов Учреждение Российской академии наук Институт физики микроструктур.
Рентгенодифрактометрия в скользящей геометрии. Макронапряжения в нанослоях. В.И. Пинегин, Е.Н. Зубарев, В.В. Кондратенко, В.А. Севрюкова, Национальный.
Система управления вакуумными печами. Общий обзор проблемы Устаревшее электронное оборудование Устаревшее электронное оборудование.
РГУ им. Иммануила Канта Инновационный парк Центр ионно-плазменных и нанотехнологий ОЖЕ МИКРОАНАЛИЗАТОР JAMP – 9500 F Образец до травления Образец после.
РЕГУЛИРУЮЩАЯ АРМАТУРА С ЛИНЕЙНОЙ РАБОЧЕЙ РАСХОДНОЙ ХАРАКТЕРИСТИКОЙ ВО ВСЕМ ДИАПАЗОНЕ РЕГУЛИРОВАНИЯ ОАО «НПО ЦКТИ» РЕГУЛИРУЮЩАЯ АРМАТУРА С ЛИНЕЙНОЙ РАБОЧЕЙ.
PCI-st / /Training_HDCnew_PCIst_ ppt HDC Classic Объем воды2000 л/ч Диапазон давлений80/160 бар Макс. температура на входе 60/80°C.
Ионно-плазменное травление Выполнил студент группы 4/10: Соколов В. О. Проверил: Мурин Д.Б.
Передача видеоинформации по каналу GSM (CSD). Задача передачи видеоинформации на дальние расстоянии становится особенно актуальной в высокотехнологичном.
ООО «САВТЭК» Вакуумная печь пайки элементов печатных плат и корпусирования микросхем.
ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ С ЗАМКНУТЫМ ДРЕЙФОМ ЭЛЕКТРОНОВ. КТО МЫ? Команда разработчиков и производителей оборудования для технологий вакуумного ионно-плазменного.
1 ФОРМИРОВАНИЕ НАНОКЛАСТЕРОВ МЕТАЛЛОВ В ГАЗОВОЙ ФАЗЕ ФОРМИРОВАНИЕ НАНОКЛАСТЕРОВ МЕТАЛЛОВ В ГАЗОВОЙ ФАЗЕ презентация к лекциям.
Зенитное окно. Преимущества зенитного окна CVP/CFP Максимальное теплосбережение Новая система для плоской кровли обеспечивает максимальное теплосбережение.
ДВИГАТЕЛИ ВНУТРЕННЕГО СГОРАНИЯ. КЛАССИФИКАЦИЯ ДВС.
EDEN 50 - сталь «премиум-класса»; - армированный металл полок, способный выдерживать значительные нагрузки; - стойки с двухсторонней Н-образной перфорацией.
Service Training Принципы управления двигателем AB120.
Ванна пастеризации молока (пастеризатор) ВПМ-250 Назначение ванны пастеризации молока (пастеризатора) ВПМ-250 Ванна длительной пастеризации молока предназначена.
Транксрипт:

Выполнил: студент группы 4-10 Шуянцев Василий

Основные технические характеристики: Вакуумная камера D-образная камера из нержавеющей стали 14"х 14"х 24 Вакуумный насос ТМН 260 л/с или 685 л/с или 1000 л/с или крионасос 1500 л/с, спиральный фор-насос 10 м 3/час или 35 м 3/час Магнетронные источники 1, 2, 3 БП магнетронных источников ВЧ300Вт, ВЧ600Вт, DC1 к Вт, DC2 к Вт, Pulsed DC1.5 к Вт Автоматическое поддержание давления (для версии с магнетронами) На основе РРГ и емкостного вакуумметра Термические испарители До 6 лодочек, лодочки и тигли для любых материалов доступны для заказа Испарители органических материалов Объем от 1 до 30 см 3 (не более четырех) Контроль толщины (мониторинг для магнетронного процесса) На основе кварцевых датчиков с заслонками. При термическом напылении датчики связаны с БП источников для автоматической работы Подложкодержатель Плоский, диаметр до 6, доступны конфигурации под заказ Размер образцов: 2, 3, 4, 6, 4"х 4«,100×100 мм, образцы произвольной формы Предельный уровень вакуума 10-7 торр Время откачки до 10-6 торр ~10 мин (Крионасос 1500 л/с) Габариты установки 990×800×1900 мм Перечень опций: (полный перечень опций по запросу) Окно для вакуумной камеры с заслонкой Сменные внутренние кожухи для сбора металла (для вакуумной камеры) Система «байпас» для рабочего насоса (шибер и вакуумная арматура) Чиллер (замкнутая система нагрева/охлаждения 10С..+80С) Переключатель для магнетронов: один БП можно использовать для (до)4 магнетронов при работе попеременно Регулируемый угол наклона магнетрона Вращение подложкодержателя 0-20 об/мин Z-Перемещение подложкодержателя Нагрев подложкодержателя 150С, 350С Водяное охлаждение подложкодержателя ВЧ смещение на подложкодержатель Различные конфигурации заслонок Дополнительные кварцевые датчики с заслонками Доступны различные конфигурации перчаточных боксов Доступны конфигурации подложкодержателя под заказ, включая конфигурации под двухстороннее напыление

Основные технические характеристики: Вакуумная камера D-образная камера из нержавеющей стали 18"х 18"х 20 Вакуумный насос ТМН 685 л/с или 1000 л/с или крионасос 1500 л/с, спиральный фор-насос 10 м 3/час или 35 м 3/час Магнетронные источники 1, 2, 3, 4 БП магнетронных источников ВЧ300Вт, ВЧ600Вт, DC1 к Вт, DC2 к Вт, Pulsed DC1.5 к Вт Автоматическое поддержание давления (для версии с магнетронами) На основе РРГ и емкостного вакуумметра Электронно-лучевой испаритель KL-6: 5 к Вт или 10 к Вт, 8×2 см 3, 6×4 см 3, 4×8 см 3 Термические испарители До 3 х лодочек, лодочки и тигли для любых материалов доступны для заказа Испарители органических материалов Объем от 1 до 30 см 3 (не более четырех) Ионная пушка KRI EH200 Контроль толщины (мониторинг для магнетронного процесса) На основе кварцевых датчиков с заслонками. При термическом напылении датчики связаны с БП источников для автоматической работы. Подложкодержатель Плоский, диаметр до 8 (до 6 при работе со шлюзом ), доступны конфигурации под заказ Размер образцов: 2, 3, 4, 6«, 60×48 мм, образцы произвольной формы Предельный уровень вакуума 10-7 торр Время откачки до 10-6 торр ~10 мин (Крионасос 1500 л/с) Габариты установки 1828×1045×2010 мм Перечень опций: (полный перечень опций по запросу) Окно для вакуумной камеры с заслонкой Сменные внутренние кожухи для сбора металла (для вакуумной камеры). Система «байпас» для рабочего насоса (шибер и вакуумная арматура) Чиллер (замкнутая система нагрева/охлаждения). Переключатель для магнетронов: один БП можно использовать для (до)4 магнетронов при работе попеременно. Регулируемый угол наклона магнетрона Вращение подложкодержателя 0-20 об/мин Z-Перемещение подложкодержателя Нагрев подложкодержателя 150С, 350С, 500С (до 6), 800С (до 6), 1000С (до 6) Водяное охлаждение подложкодержателя ВЧ смещение на подложкодержатель Различные конфигурации заслонок Дополнительные кварцевые датчики с заслонками Вакуумный шлюз с ТМН Доступны конфигурации подложкодержателя под заказ, включая конфигурации под двухстороннее напыление

Основные технические характеристики: Вакуумная камера Стеклянный колпак 12"x18 с защитной сеткой Камера из нержавеющей стали 16"х 16"х 16 Вакуумный насос ТМН 260 л/с или 685 л/с, спиральный или масляный фор-насос 5 м 3/час, диффузионный насос по запросу Магнетронные источники 1, 2, 3, 4 БП магнетронных источников ВЧ300Вт, DC1 к Вт, DC2 к Вт Автоматическое поддержание давления (для версии с магнетронами) На основе РРГ и емкостного вакуумметра Термические испарители До 3 х лодочек, лодочки и тигли для любых материалов доступны для заказа Контроль толщины (мониторинг для магнетронного процесса) На основе кварцевых датчиков с заслонками. При термическом напылении датчики связаны с БП источников для автоматической работы Подложкодержатель Плоский, диаметр до 8, доступны конфигурации под заказ Размер образцов: 2, 3, 4, 6, 60×48 мм, образцы произвольной формы Предельный уровень вакуума 10-7 торр Время откачки до 10-6 торр ~15 мин (ТМН 685 л/с) Габариты установки 1270×940×1727 мм Перечень опций: (полный перечень опций по запросу) Сменные внутренние кожухи для сбора металла (для стальной камеры) Чиллер (замкнутая система охлаждения) Переключатель для магнетронов: один БП можно использовать для (до)4 магнетронов при работе попеременно Регулируемый угол наклона магнетрона Вращение подложкодержателя 0-20 об/мин Z-Перемещение подложкодержателя Нагрев подложкодержателя 150С, 350С Водяное охлаждение подложкодержателя Различные конфигурации заслонок Дополнительные кварцевые датчики с заслонками

Основные технические характеристики: Вакуумная камера D-образная камера из нержавеющей стали 24"х 24"х 24 Вакуумный насос ТМН 1000 л/с или крионасос 1500 л/с, спиральный фор-насос 35 м 3/час Магнетронные источники 1, 2, 3, 4, промышленные линейные и циркулярные БП магнетронных источников ВЧ300Вт, ВЧ600Вт, DC1 к Вт, DC2 к Вт, Pulsed DC1.5 к Вт, промышленные DC и RF до 10 к Вт Автоматическое поддержание давления (для версии с магнетронами) На основе РРГ и емкостного вакуумметра Электронно-лучевой испаритель KL-6: 5 к Вт или 10 к Вт, 8×2 см 3, 6×4 см 3, 4×8 см 3 KL-8: 5 к Вт или 10 к Вт, 8×12 см 3, 6×20 см 3, 4×35 см 3 Термические испарители До 6 лодочек, лодочки и тигли для любых материалов доступны для заказа Испарители органических материалов Объем от 1 до 30 см 3 Ионная пушка KRI EH200 Контроль толщины (мониторинг для магнетронного процесса) На основе кварцевых датчиков с заслонками. При термическом напылении датчики связаны с БП источников для автоматической работы Подложкодержатель Плоский, купол, доступны конфигурации под заказ Размер образцов: 2, 3, 4, 6, 8«, 60×48 мм, образцы произвольной формы Предельный уровень вакуума 10-7 торр Время откачки до 10-6 торр ~15 мин (Крионасос 1500 л/с) Габариты установки 1800×950×1950 мм Перечень опций: (полный перечень опций по запросу) Окно для вакуумной камеры с заслонкой Сменные внутренние кожухи для сбора металла (для вакуумной камеры) Система «байпас» для рабочего насоса (шибер и вакуумная арматура) Чиллер (замкнутая система нагрева/охлаждения) Переключатель для магнетронов: один БП можно использовать для (до)4 магнетронов при работе попеременно Вращение подложкодержателя 0-20 об/мин Z-Перемещение подложкодержателя Нагрев подложкодержателя 150С, 350С, 500С (до 6), 800С (до 6), 1000С (до 6) Водяное охлаждение подложкодержателя ВЧ смещение на подложкодержатель Различные конфигурации заслонок Дополнительные кварцевые датчики с заслонками Вакуумная камера для изоляции электронно-лучевого испарителя Доступны конфигурации подложкодержателя под заказ, включая конфигурации под двухстороннее напыление